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微波設(shè)備操作過程中的均勻加熱

2013-11-30
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微波設(shè)備操作過程中的均勻加熱

    達(dá)到均勻加熱的方法很多,總括起來也 有二類:“類是改變加熱箱內(nèi)電磁場的分布,即改變加熱器 內(nèi)的模式分布,也即改變箱內(nèi)的熱點(diǎn)和冷點(diǎn)的分布〔必要條 件是加熱箱要設(shè)計(jì)的能容納較多的模式〉,諸如加攪拌器、激 勵(lì)棒、調(diào)配器和改變箱體尺寸《如移動(dòng)箱底、箱壁)等;另一類是移動(dòng)被加熱物體在箱內(nèi)的位置,像采用傳送帶,托盤 移動(dòng)、旋轉(zhuǎn),攪拌加熱器內(nèi)加熱物等。

在連續(xù)加工過程中常采用傳送帶形式。對(duì)均勻加熱來說, 傳送帶寬度越窄越好、如果太寬(比如接近加熱箱寬度)的 話,則可能在寬的方向上加熱不均勻4但傳送帶窄了,承載 的物體數(shù)量就少〈物體在傳送帶上的厚度受箱體進(jìn)出口開口 高度的限制,開口高度又受泄漏指標(biāo)的限制〉,一般折中考慮 傳送帶寬度取箱體寬度的一半左右。

如果傳送帶取一層,則垂直方向的熱點(diǎn)就可能得不到很 好的利用。因此,也有在箱體內(nèi)傳送帶是立體分布的設(shè)備,上、 中、下三條傳送帶來園移動(dòng)',三條帶在水平方向各差開1定 距離,這樣就能較好地得到均勻加熱,見圖2-6。要使熱點(diǎn)大 部分投入到傳送帶。還要使用調(diào)配器。

如果多臺(tái)微波源聯(lián)合使用,那么傳送帶的寬度應(yīng)接近加 熱箱寬度。要使加熱物較均勻地得到加熱,在操作中,可將 各臺(tái)微波源分別使用調(diào)配器,將熱點(diǎn)沿水平方向故次調(diào)偏一

定距離來解決此問題。

被加熱介質(zhì)的體積如果占了加熱箱容積的大部分(重負(fù) 載〕,則不用調(diào)配器就可達(dá)到較小的駐波比,這時(shí)可用攪拌器 來反復(fù)改變熱點(diǎn)和冷點(diǎn),從而得到均勻加熱。

 在設(shè)備運(yùn)行中,如能實(shí)現(xiàn)被加熱介質(zhì)的性質(zhì)、溫度、水 分含量等指標(biāo)和微波功率、送料速度等操作參數(shù)自動(dòng)調(diào)節(jié),將 會(huì)使加工水平有很大的提高。

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